国产纳米压印工艺商业化落地，多细分赛道受益光芯片制造范式革新！6月5日，璞璘科技与深圳力策合作采用真空气压式纳米压印方案实现8英寸光芯片量产突破：依托璞璘科技自主研发的PL-AS真空气压式晶圆级纳米压印光刻设备，配合定制化双层压印胶材料体系与核心工艺，完全绕开深紫外（DUV）光刻路线，成功实现8英寸光芯片晶圆可规模化量产，并将芯片制造成本压缩至传统DUV方案的十分之一。6月5日是国内NIL在8英寸光芯片赛道从“验证/试产”进入“规模化量产”的拐点。1.苏大维格（300331）：A股唯一全产业链布局NIL企业，自研纳米压印设备、微纳光学模板、压印工艺；线宽精度