高盛最近有个说法，
中国芯片已突破集中到65纳米，仍落后荷兰ASML20年
然而近期宇量升，对着高盛的脸上，直接呼了巴掌。
高盛是这么算账的，ASML从65纳米发展到现在的3纳米，
前前后后用了大约20年时间，前后花了400亿美元，将近3000亿人民币
才搞出来，关键时，他的研发，无人阻挡，全球供应链，任他取用。还花了20年时间
中国从2019年就被美国各种制造障碍，不可能这么快就完成研发
然后宇量升最近的光刻机原来是实验28纳米制程，实验通过测7纳米，依然相当好
现在没5纳米，如果依然不错。那么这事就大了。如果真的做到5纳米，阿斯麦也就5年到8年了
所以，高盛这种预测，看看也就罢了。如果光刻机全线突破了，国内的某些公司，大概会追平台积电。目前市场上几个大逻辑
算力上，昇腾950要在2026年追平H100，这里据说需要Z芯3nm工艺和HiF8精度格式；
存储上，长江的HBM要在2027年量产，目标是全球市场份额15%；最终替代掉韩国存储
设备上，宇量昇的第二代DUV要保14nm，冲7纳米，新凯来的EUV原型再来个横空出世
大逻辑上。本轮光刻机逻辑。还是追赶与替代，在替代的过程中，完成主体产业链的国产化
一旦光刻机突破，美国有可能会一反常态。重新转为合作也有可能
中国追赶的空间，就是A股的机遇。今天市场大跌之际，光刻机根本不受影响
今晚9点，咱们继续在头条见面聊。。。