价值投资日志 光刻胶:芯片制造核心材料核心逻辑:AI先进制程(7nm/5nm/3nm)带动高端光刻胶(ArF/EUV)需求,国产替代加速。- 南大光电(300346)- 国内唯一实现28nm ArF光刻胶量产,良率99.7%- 订单:中芯国际百吨级订单落地,大基金三期加持- 鼎龙股份(300054)- 高端光刻胶量产线投产,打破日美垄断- 雅克科技(002409)- 光刻胶配套材料(显影液、特种气体)龙头
价值投资日志 光刻胶:芯片制造核心材料核心逻辑:AI先进制程(7nm/5nm/3nm)带动高端光刻胶(ArF/EUV)需求,国产替代加速。- 南大光电(300346)- 国内唯一实现28nm ArF光刻胶量产,良率99.7%- 订单:中芯国际百吨级订单落地,大基金三期加持- 鼎龙股份(300054)- 高端光刻胶量产线投产,打破日美垄断- 雅克科技(002409)- 光刻胶配套材料(显影液、特种气体)龙头