问了一下豆包究竟中国光刻机研制到了什么程度，得出结论就是DUV28纳米完全自主可控国产化85%，多重曝光可达到7纳米。
极紫光刻机差距8至10年，正试制样机。
但在改变路径采用非极紫，在雄安制造。
问了一下豆包究竟中国光刻机研制到了什么程度，得出结论就是DUV28纳米完全自主可
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问了一下豆包究竟中国光刻机研制到了什么程度，得出结论就是DUV28纳米完全自主可控国产化85%，多重曝光可达到7纳米。
极紫光刻机差距8至10年，正试制样机。
但在改变路径采用非极紫，在雄安制造。