🔥日本断供光掩膜版（Mask） 时间进展推演影响 🔥一个月：1、新产品不能导入。2、 产品升级无法流片（Tape-out）。3、Mask损坏无法补做。4、良率下降后无法重新制作优化版Mask。5、研发几乎停滞。 🔥半年：影响会非常严重。1、新芯片无法生产。2、老Mask老化无法替换。3、新工艺无法开发。4、整个先进制造能力逐渐下降。5、最终可能导致部分产品停产。 为什么Mask断供比很多材料更危险？ 因为它具有几个特点： 制造周期长 制造门槛极高 供应商非常少 无法轻易替代 一个成熟工艺（90nm、65nm）可能需要20~40张Mask。先进工艺（7nm、5nm、3nm）可能需要60~90张甚至100多张Mask，因为采用多重曝光和复杂工艺。 中国四大掩膜版：路维、龙图、清溢、冠石（唯一28量产） 掩膜版原材料：聚和材料（SK供应商 国产供应商）