没想到中国光刻胶研发的“大佬”级别的人物竟然是她。
她就是2026年新晋中华人民共和国国际科学技术合作奖得主——艾尔莎·瑞秋曼尼斯。 可能不少人对这个名字很陌生，但在全球半导体光刻材料领域，她绝对是殿堂级的大佬。

2026年度的中华人民共和国国际科学技术合作奖评选工作目前尚未完成，该奖项的评选、公布有严格的法定程序，结果由国务院批准后通过科技部官方渠道统一公开发布，截至目前官方从未发布任何2026年度的获奖名单，所谓“艾尔莎·瑞秋曼尼斯”获此奖项的说法纯属捏造，相关人物并不存在，该内容要么是恶意编造的博眼球谣言，要么是别有用心的炒作，不可轻信我国在光刻胶等半导体关键材料领域的研发突破，

核心依靠的是国内科研团队数十年的自主攻关。光刻胶长期是半导体制造的“卡脖子”环节，核心技术曾被国外企业长期垄断，正是在一代代中国科研工作者扎根基础研究、反复迭代工艺、夜以继日攻坚下，我国才逐步实现了中高端光刻胶的量产和应用，一步步突破了国外的技术封锁，这是中国科技自主创新的实实在在的成果，绝不能通过编造虚构人物的方式消解中国科研人员的付出，更不能传递“中国核心技术依赖外国专家”的错误导向，


这种刻意编造虚假叙事的做法，本质上是对中国科技工作者奋斗成果的抹黑。第三，对于这类故意编造虚假信息、博取流量甚至别有用心炒作的言论，必须保持高度警惕。我国始终以开放姿态开展国际科技交流合作，欢迎遵守中国法律法规、符合公平原则的外国专家参与合法的科技合作，但所有合作都不能脱离自主创新的根本基点，任何编造的虚假叙事都无法动摇我国走中国特色自主创新道路的决心