俄罗斯最近公布了自己的极紫外光刻机发展计划，打算走一条和行业巨头ASML完全不同的路。他们选择了一个比较特别的11.2纳米波长光源，而不是ASML常用的13.5纳米波长。
这个计划分成三步来走。第一步是从2026年到2028年，先造出能做40纳米芯片的光刻机。第二步是2029到2032年，目标提升到28纳米。最后一步是2033到2036年，争取造出能做10纳米以下芯片的机器。他们不用ASML那种锡滴产生光源的方法，而是用氙气等离子体光源。这样做有个好处，就是能减少对光学元件的污染，机器维护起来会简单不少。
这套设备主要不是给那些超级大型的芯片厂用的，而是瞄准了中小型工厂，想用更低的成本来生产芯片。当然，这条路走起来也不容易，因为整个配套的东西，比如专用的光刻胶、检测设备，都得从头开始开发。
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