新凯莱的“惊喜”，会是这些。光刻机综合研发形势一片大好，2028年量产28nm很

新凯莱的“惊喜”，会是这些。光刻机综合研发形势一片大好，2028年量产28nm很有希望

新凯莱10月15日至17日举办的“湾芯展”上可能带来多项“惊喜”，主要是测试仪器、先进制程配套。

例如超高速实时示波器，子公司“万里眼”做的，性能提升500%，对标国际头部品牌。填补国内高端电子测量仪器空白的关键突破。很可能最大惊喜是这个。

新凯莱还将推出薄膜沉积、刻蚀、清洗等环节的设备，如EPI外延沉积设备（峨眉山）、ALD原子层沉积设备（阿里山）、刻蚀设备（武夷山）。

还有自主研发的13类量检测产品，缺陷检测或尺寸量测类设备，进一步完善设备生态。

DUV光刻机是别的单位做，新凯莱是做先进制程的配套仪器。

由于近来的一些进展，我也敢对国产光刻机报喜了，形势一片大好。2028年实现28nm量产，这就是决定性的突破。一旦28nm量产实现可用的良率，就说明国产芯片制造体系闭环了，终于可以高速迭代了，后面14nm、10nm、7nm都会比较顺。

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青崧

2025-10-14 14:39

7纳米都量产出来了，还28年量产28nm瞎扯犊子

用户10xxx40 回复 10-14 15:08
那不是国产设备造的，纯国产28nm2028年能搞出来就不错了

上善回复 10-14 15:38
中芯用阿斯麦机子做出来

平凡的世界

2025-10-14 18:56

duv镜头euv镜片最难！我创新的技术：1、在A液体中，滴入高温玻璃液，让玻璃液漂浮（可旋转）或悬浮或下沉（自由或旋转、A液体足够深）；这样可能让接触A液体的玻璃表面足够光滑。2、任何方法制造的光滑镜面，先冷却，后在真空环境下让反射或透光面被激光微秒加热、导致表面几层原子熔化后，用静置与旋转相结合的方法、在冷却后，重复前面熔化冷却步骤，利用表面张力向心力让镜面平整度到达或接近原子级，加上原子级镀膜技术，则镜面能满足高精度需求；冷却可以自然冷却也可以气液冷却。3、单面原子级光滑的玻璃，可切割打磨粗面后背靠背焊合，利用分子扩散均匀接触面，制成双面原子级光滑的镜头或镜片。本人一介草民，没学过镜面处理知识，看见光刻机光学模组久久无法突破，一时技痒，竟然不怕献丑说出所想。