学习了一下“新凯来”
来自微博AI整理
新凯来（SiCarrier）在2025年10月15日湾区半导体产业生态博览会（湾芯展）及近期动态的核心信息综合整理：
一、展会核心亮点：技术突破与战略发布
国产EDA软件突破
子公司启云方发布两款完全自主知识产权的电子工程EDA设计软件（原理图与PCB设计工具），性能较行业标杆提升30%，硬件开发周期缩短40%。此举打破美国对芯片设计工具的垄断封锁。
高端测试仪器亮相
子公司万里眼发布 90GHz超高速实时示波器 及 120GHz频谱仪，突破《瓦森纳协议》对高端仪器的禁运限制，填补国内空白，适配先进芯片研发需求。
光刻机技术路径披露
首次公开 28nm浸没式深紫外光刻机（DUV）原型机，采用 SAQP四重曝光工艺（自对准四重成像），目标2026年量产，理论可逼近5nm等效制程。
现场仅展示技术路径（外层展台），整机未公开展示，内层需预约参观。
配套光学部件由 奥普光电 供应（合资公司长光集智研发），分辨率达22nm。
半导体设备矩阵更新
展出16款以名山命名的核心设备（已量产）：
刻蚀设备：武夷山系列（支持7nm以下制程）
薄膜沉积设备：阿里山系列（ALD）、普陀山系列（PVD）、长白山系列（CVD）
量检测设备：岳麓山（光学检测）、天门山（光学量测）、赤壁山（X射线量测）。
二、产业链协同与国产化进展
供应链闭环生态
关键供应商：至纯科技（湿法清洗设备）、新莱应材（超高洁净管路）、利和兴（精密结构件）、江丰电子（靶材）等实现95%国产化率。
客户合作：中芯国际、长江存储已导入设备验证，2025年订单超百亿元。
深圳国资强力支持
通过“基金+展会+联盟”模式推动生态建设：
设立50亿元半导体产业投资基金；
对采购国产设备企业给予最高1亿元补贴。
三、争议与风险提示
光刻机量产挑战
SAQP工艺目前仅完成实验室验证，尚未通过中芯国际量产线良率测试，量产效率与稳定性存疑。
概念股炒作分化
展会当日新莱应材、凯美特气等高开低走，资金兑现预期明显。
深振业A、深纺织A因“借壳预期”涨停，但两家公司已澄清无重组计划。
四、战略意义与行业影响
技术自主里程碑
覆盖除光刻机外所有芯片制造核心设备，标志中国从“单点突破”迈向“全产业链自主”。
华为基因+国资赋能
前身为华为2012实验室星光工程部，技术底蕴深厚；深圳国资注资超百亿，加速国产替代进程。
全球竞争格局重塑
若SAQP工艺量产成功，将打破ASML在成熟制程垄断，改写设备竞争规则。
总结与展望
新凯来以 “非对称技术路径”（SAQP绕开EUV限制）、全链条覆盖能力及 政企协同生态，成为中国半导体设备国产化的核心力量。短期需关注：
2026年28nm DUV光刻机量产进度；
SAQP工艺良率验证结果；
供应链自主可控深化（如EDA软件生态落地）。
注：技术突破需理性看待实验室数据与产业化落地的差异，资本市场炒作需警惕预期透支风险。
