中国航天科工杨博钦博士：DUV光刻机和EUV光刻机有什么区别？两者核心区别源于光

科金院说过去 2025-12-09 11:26:45

中国航天科工杨博钦博士：DUV光刻机和EUV光刻机有什么区别？两者核心区别源于光源波长，进而在技术原理、工艺、成本等多方面形成差异，具体关键区别如下：1. 光源波长：DUV用193nm深紫外光，浸没式技术下等效波长134nm；EUV用13.5nm极紫外光，波长仅为前者的约1/14。2. 光学与运行环境：DUV靠折射式透镜传光，可在空气或搭配超纯水的环境工作；EUV光易被物质吸收，需用钼硅多层反射镜传光，且全程要在真空环境中运行。3. 制造工艺：DUV需通过多重曝光实现先进制程，步骤繁琐；EUV能单次曝光完成复杂图案，大幅简化工艺，还能减少缺陷累积。4. 适用制程：DUV是成熟主力，多用于28nm - 7nm制程；EUV主打7nm及以下更先进的制程，是顶级芯片制造的关键设备。5. 成本与供应商：DUV单台数千万美元，供应商有ASML、尼康、佳能；EUV单台超1.5亿美元且维护成本高，目前全球仅ASML能制造。

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