德国之声昨晚写道：“阿斯麦最新回应表示，从未向中国出口过极紫外光刻机及部件。此前有报道称，美国官员担心，该公司一款先进的极紫外光刻机已经流入中国。阿斯麦最先进的EUV光刻系统重达180吨，体积相当于一辆中型客车。”

EUV光刻机并非普通零部件，而是由光源、透镜、工件台等复杂系统组成，运输、安装、调试和长期维护都高度依赖原厂体系。ASML强调，相关设备从未对华发运，中国境内没有其EUV整机，这恰恰说明所谓“流入中国”缺乏可信证据。

美国若确有确凿线索，理应拿出物流、关务、安装或维护记录，而不是停留在“担心”层面。没有证据的怀疑，很容易被理解为借题发挥。其真实目的，可能不只是追查一台机器，而是在为更严厉的出口管制寻找舆论铺垫。

事实上，美国近年不断推动荷兰、日本扩大半导体设备管制范围，从EUV延伸至部分DUV，甚至波及成熟制程设备。对ASML而言，中国市场曾贡献重要收入，过度跟随美国，不仅会伤害自身商业利益，也会加剧欧洲战略自主的困境。

中国短期内确实难以绕过EUV限制，但压力也在倒逼国产替代。上海微电子、科益虹源、华卓精科、茂莱光学等企业，正在光源、工件台、光学元件等环节补链强链。国产光刻机尚未全面赶超ASML，但成熟制程自主化已具备现实基础。

我认为，所谓“EUV失踪”更像是美国为升级封锁制造的叙事。真正令华盛顿焦虑的，不是某台机器神秘流入，而是中国半导体产业链正被外部压力逼出更强韧性。封锁或许能延缓技术追赶，却无法阻止一个国家围绕供应链安全进行长期补课。