没想到中国光刻胶研发的“大佬”级别的人物竟然是她。她就是2026年新晋中华人民共和国国际科学技术合作奖得主——艾尔莎·瑞秋曼尼斯。可能不少人对这个名字很陌生，但这位美籍顶尖学者深耕二十年助力中国光刻技术突围。在全球半导体光刻材料领域，她绝对是殿堂级的大佬。2026年7月8日，2025年度中华人民共和国国际科学技术合作奖正式公示出炉。这一奖项每年名额极少，只认可真正落地、切实推动我国科技进步的外籍科研工作者。本届获奖者艾尔莎·瑞秋曼尼斯，是业界公认的光刻材料领域奠基人，学界地位厚重。身为拉脱维亚裔美籍科学家，她身兼美国三院院士，常年深耕高分子与半导体材料研究。不同于多数功利化科研从业者，艾尔莎的科研内核始终纯粹，坚持技术无国界的初心。她毕生专注材料技术落地应用，深耕育人事业，拒绝将科研成果绑定地缘政治博弈。上世纪八十年代，全球半导体产业刚刚起步，她在贝尔实验室完成关键技术攻坚。她研发的深紫外光刻胶技术，成功实现工业化量产，搭建起现代芯片光刻工艺基础体系。在海外技术垄断尚未成型的阶段，她就主动吸纳华裔学子进入团队参与核心研究。这批早年培养的科研人才，如今大多扎根国内半导体行业，成为核心研发骨干力量。2005年，全球科技竞争加剧，多国收紧对华学术交流渠道，壁垒初步显现。艾尔莎主动牵头美国化学会代表团访华，主动对接中科院、北大等顶尖科研机构。她主动搭建常态化学术交流通道，打破当时中美材料领域信息闭塞的尴尬局面。十余年间，她与中方团队合作发表十八篇高水平论文，编撰行业专业专著。多名经她联合培养的研究生，顺利入选国家级青年人才计划，成长为行业新锐。最难得的是，她从不刻意保留核心技术，主动开放光刻胶底层分子设计原理。针对国产光刻胶量产稳定性差、良品率偏低的通病，她给出大量实操性优化方案。2026年初，海外新一轮半导体封锁政策落地，多数外籍学者暂停对华科研往来。艾尔莎不受外部压力影响，坚持来华深入苏州半导体生产线，实地排查设备适配问题。所有技术指导均无偿开展，不附加任何商业捆绑、政治合作的苛刻附加条件。她始终坚守科研育人的初心，认为技术的价值在于解决难题，而非制造对立壁垒。这份通透且坚定的科研内核，让她在行业封锁浪潮中，始终保持独立纯粹的科研姿态。外来技术帮扶只是辅助，我国半导体产业逆势崛起，核心依托本土团队的默默坚守。多年来，国内光刻材料研发长期面临设备紧缺、资料空白、技术封锁的三重困境。中科院、东华大学、沪硅产业等一众科研团队，扎根实验室开展常态化攻坚工作。科研人员常年放弃节假日休息，反复调试材料配比、提纯工艺与量产参数。无数次实验失败、数据复盘、工艺迭代，一点点补齐国产光刻胶的技术短板。团队依托外来先进理论支撑，结合国内生产线现状，打磨本土化适配的量产方案。从实验室微量试样到规模化工业量产，本土团队攻克批次不稳、兼容性差等难题。一代代科研人耐住寂寞、深耕冷门赛道，用平凡坚守筑牢国产半导体材料根基。正是这份不服输、沉得住气的民族科研毅力，让国产光刻技术逐步打破海外垄断。国家为艾尔莎颁发国际科技合作奖，是对跨国纯粹科研协作的认可与正向倡导。我国科技发展始终坚持自主创新与开放包容并行，既自立自强，也善待全球同行者。如今国内光刻胶产业体系日趋完善，多品类特种光刻胶实现自主可控、批量投产。国产材料逐步替代进口产品，持续赋能国内中高端芯片的自主化生产制造。现年七十三岁的艾尔莎依旧坚守科研一线，任职于美国理海大学担任杰出讲席教授。她持续兼任东华大学重点实验室外方学术主席，常态化开展线上科研指导与人才培育。国内半导体科研团队依旧保持攻坚姿态，持续深耕前沿光刻材料与新型制备工艺。中外良性学术协作持续深化，本土自主创新稳步进阶，持续夯实我国芯片产业底气。信源：央视新闻
