“光刻机没有一个国家可以做得到，美国都造不出，中国根本做不到！”“中国永远都造不出光刻机？”去年，中国物理学教授朱士尧在一次采访中直言：“美国都造不出，中国永远也造不出来！”甚至认为世界上没有一个国家能造出光刻机。 光刻机是芯片制造的核心家伙事儿，没有它，手机、电脑、汽车芯片啥的都玩不转，它的工作原理是用光在硅片上刻出超级细小的电路，精度得控制在纳米级别，一纳米是头发丝直径的十万分之一，想想就知道多难。 这机器里光是关键零件就有上十万个，90% 的核心设备得从全球各地搜罗，荷兰 ASML 能造最顶尖的 EUV 光刻机，背后得靠五千多家供应商撑着，小到德国的高精度物镜，大到美国的光源系统，缺了哪一环都不行。 而且全球市场早就形成了 “一超两强” 的格局，高端 EUV 只有 ASML 能造，连曾经的科技巨头美国，现在都没有能拿得出手的光刻机企业，也难怪会有 “没有国家能独立造出” 的说法。 但就在朱士尧教授说这话之后没多久，国内的科研团队就拿出了新动静。2025 年 8 月，杭州浙大余杭量子研究院亮出了全国首台国产商业电子束光刻机 “羲之”，这台机器精度能到 0.6 纳米，线宽 8 纳米，专门针对量子芯片和小批量定制芯片，一下子就填补了国内的技术空白。 和传统光刻机比，“羲之” 还有个绝活儿，不用掩膜版就能直接在硅片上 “手写” 电路图案，改设计不用重新做模板，对需要频繁试错的芯片研发来说太实用了。 更让人惊喜的是它的性价比，价格比进口设备低三成，交付周期还能压缩到三个月以内，要知道以前买进口光刻机，光是等货就得半年起步，成本高得让很多中小研发团队望而却步。 现在 “羲之” 一出来，深圳有家量子芯片公司 10 月份就拿到样品测试，研发效率一下提上去了。这还带动了整条产业链，上海的材料厂、北京的软件团队都跟着动起来，配件国产化率已经冲到了七成。 其实 “羲之” 的突破不是凭空来的，国内早就有布局。上海微电子的 DUV 机型在 28 纳米工艺上已经能稳定量产，光学领域的茂来光学、国科精密一直在攻克镜头难题，科益虹源还成了全球第三家能做光刻准分子激光的公司。 这些零散的突破慢慢攒起来，终于在 “羲之” 身上形成了合力。就连 ASML 都感受到了压力，2025 年第三季度中国市场订单直接下滑 20%，股价也跟着缩水不少。 现在再回头看 “中国永远造不出光刻机” 的说法，答案已经很明显了。虽然 “羲之” 目前更偏向定制化，量产速度还需要优化，和 ASML 的 EUV 在高端量产领域还有差距，但它已经戳中了中国芯片研发的痛点。 随着中芯国际、华虹这些晶圆厂不断扩建，国内对光刻机的需求还在增长，而像北方华创、中微公司这些企业的市值持续走高，也能看出市场对国产芯片设备的信心。 中国的光刻机技术突破，也许需要十年、二十年，甚至五十年，但在无数中华儿女的努力奋斗下，我们终将打破欧美封锁，实现这一技术的重大突破。
